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KLA-Tencor推出可解决二次成像挑战的首款计算光刻机

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摘要 KIA-Tencor公司日前推出其领先业界的最新版计算光刻机PROLITH11。这种新型光刻机让用户首次得以评估当前的二次成像方案，并以较低的成本针对光刻在设计、材料与制程开发等方面挑战，尝试不同的解决方案。这种新型计算光刻机还支持单次成像和浸没技术。

DOI odwlepq34k/614680

作者

机构地区不详

出处《中国集成电路》 2008年8期

关键词二次成像计算光刻机浸没技术

分类 [电子电信][微电子学与固体电子学]

出版日期 2008年08月18日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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来源期刊

中国集成电路

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二次成像计算光刻机浸没技术

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