多热源SiC合成炉温度场分布规律及影响因素研究

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摘要 利用自行设计的多热源碳化硅合成炉,研究非封闭及封闭合成炉炉表及其上方各点的温度场分布规律。结果表明:表面负荷为13W/cm^2,非封闭合成SiC,炉表最高温度约为600℃;封闭合成SiC,炉表最高温度为1061℃,距离炉表50cm高的集气罩最高温度为440℃;使用高挥发份或高固定碳含量的碳质原料、或者通过"引射"装置可以降低炉内各点及集气罩的温度。
机构地区 不详
出处 《榆林学院学报》 2008年2期
关键词 碳化硅 CO 温度
出版日期 2008年02月12日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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