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《榆林学院学报》
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多热源SiC合成炉温度场分布规律及影响因素研究
多热源SiC合成炉温度场分布规律及影响因素研究
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摘要
利用自行设计的多热源碳化硅合成炉,研究非封闭及封闭合成炉炉表及其上方各点的温度场分布规律。结果表明:表面负荷为13W/cm^2,非封闭合成SiC,炉表最高温度约为600℃;封闭合成SiC,炉表最高温度为1061℃,距离炉表50cm高的集气罩最高温度为440℃;使用高挥发份或高固定碳含量的碳质原料、或者通过"引射"装置可以降低炉内各点及集气罩的温度。
DOI
ojnl71e1dr/593061
作者
王爱民;白妮;王晓刚
机构地区
不详
出处
《榆林学院学报》
2008年2期
关键词
碳化硅
CO
温度
分类
[文化科学][高等教育学]
出版日期
2008年02月12日(中国期刊网平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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来源期刊
榆林学院学报
2008年2期
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