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LPCVD中气体流量对a-Si:H膜厚影响的研究

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摘要摘要

DOI g4qrpg69j8/5469596

作者黄心沿石书清任鹏朱辉田安

机构地区湖南红太阳光电科技有限公司湖南长沙 410205

出处《中国科技信息》 2021年4期

关键词 LPCVD 气体流量膜厚

分类 [][]

出版日期 2021年08月30日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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中国科技信息

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