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低水峰光纤

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摘要【摘要】：介绍了PCVD低水峰光纤生产工艺和其材料组成、结构及性能,在生产普通单模光纤的基础上,通过优化PCVD工艺,成功抑制了普通单模光纤在1383nm由于羟基(OH)吸收造成的水峰损耗。光纤中功能梯度的芯层和光学包层、高纯均匀的机械包层和性能优越的双层涂覆层,使PCVD低水峰光纤各项性能指标全面达到或优于最严格的ITU-TG.652.C/D和IEC60793-2-50B.1.3光纤标准要求.

DOI ojne1ogmjr/4944713

作者廖奇吕霖儒霍虹旭赵卓依靖源

机构地区哈尔滨理工大学山东省威海市荣成市邮编264300

出处《当代电力文化》 2020年20期

关键词光纤传感器光纤光栅光纤传感技术光纤通信

分类 [电气工程][电力系统及自动化]

出版日期 2020年12月01日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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