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曲面微光学结构纳米压印制备技术研究

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DOI wjvvlwvqj7/4593350

作者王宇

机构地区哈尔滨固泰电子有限责任公司黑龙江省哈尔滨市 150060

出处《工程管理前沿》 2020年4期

关键词　摘要曲面光栅受自身的性质影响，主要体现为透镜与平面光栅器件，通过曲面光栅的取代，可以有效的降低透镜的数量，实现对光路的简化，并提升器件的集成度，在保证系统稳定性的基础上降低成本，满足当前的需求。　　曲面光栅纳米压印制备湿法腐蚀　　随着时代不断发展，曲面微光学结构纳米压印制备技术不断创新，并促使其技术广泛应用，如在光通信领域计量领域光谱学领域信息处理领域等，提升光学器件的整体集成度，保证其具有較强的稳定性，降低成本的投入，灵活应用技术优势，满足时代发展的需求。　　

分类 [天文地球][工程地质学]

出版日期 2020年04月24日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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工程管理前沿

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