摘要
摘要目的应用微种植体支抗治疗上前牙牙槽骨垂直发育过度的露龈笑患者，测量上切牙的压低量及微笑时牙龈显露程度。方法选取8名高角，前牙深覆牙合，上颌前部牙槽骨垂直发育过度存在露龈笑的患者，设计拔除上颌两侧第一双尖牙（年龄14-23岁），在上颌两侧切牙与尖牙之间植入微种植体支抗，用lOOg力压低上前牙。制作治疗前后模型，测量上前牙临床牙冠长度；拍摄X线头颅侧位片及患者微笑和侧貌像，应用头影测量分析软件进行测量分析及测量牙龈显露量。结果U1-SN距,U1-PP距，UI-N距显著减小；牙龈显露减少3.1～3.5mm，平均3.38±O.13mm；前牙覆牙合覆盖正常。结论微型种植体作为稳定的支抗力量，能有效压低上前牙、改善深覆牙合深覆盖及露龈笑。
出版日期
2010年12月22日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
