摘要
WehavedepositedW/Simultilayermirrorsusingthemagnetronsputteringunderthelowsputteringpressureandthehighmagneticfieldstrength,andmeasuredtheirreflectivtityinBeijingsynchrotronradiationfaciltiy,W/Simultilayershowthepeakreflectivityofapproximately10%ataphotonenergyof1200eVand10.5%ataphotoenergyof700eVrespectivelyattheincidenceangleof81°。
出版日期
2001年01月11日（中国期刊网平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
